[实用新型]一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架

摘要

本实用新型公开了一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆，上支撑盘固定在上支撑座上，下支撑盘固定在下支撑座上，撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，活动挂板可沿导轨绕转轴转动。通过转动活动挂板可以控制活动挂板到溅射阴极之间的距离，使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，从而改变挂板各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。