[实用新型]一种粉末镀膜装置有效
申请号: | 202022143004.9 | 申请日: | 2020-09-25 |
公开(公告)号: | CN213447297U | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 李湘林;李力 | 申请(专利权)人: | 东莞纳锋微电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人: | 张明 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及原子层沉积技术领域,尤其是指一种粉末镀膜装置,包括粉末样品真空腔、抽气机构、加热器、物料瓶以及吹气机构,所述抽气机构用于对粉末样品真空腔抽气,所述加热器用于为粉末样品真空腔加热,所述物料瓶用于向粉末样品真空腔内提供镀膜的原料,所述吹气机构与粉末样品真空腔连通并且用于为粉末样品真空腔内提供流动气体。本实用新型提供的一种粉末镀膜装置,通过吹气机构对粉末样品真空腔内吹入流动气体,将粉末吹散,从而防止粉末团聚,进而可以使粉末表面均匀镀膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 粉末 镀膜 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的