[实用新型]一种气道冲洗治具有效
| 申请号： | 202022184081.9 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN212848328U | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 杨苏圣 | 申请（专利权）人： | 湖州科秉电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 周孝林 |
| 地址： | 313000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种气道冲洗治具，包括平台以及设置于所述平台上的通水治具，所述通水治具上设置有一容纳空间，将喷洒头放置于所述通水治具内后，向通水治具内通入超纯水，以对喷洒头内的气道进行冲洗，通过设置平台以及设置于该平台上的通水治具，将喷洒头部件放置于所述通水治具内后，向通水治具内通入超纯水，以对喷洒头内的气道进行冲洗，进而有效去除气道内的微尘粒子并有效控制其含量，降低生产成本，提高产品质量，解决了现有技术中存在的喷洒头气道无法清洗、需频繁报废更换的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 冲洗 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
