[实用新型]一种硅片用槽式抛光装置

摘要

本实用新型公开了一种硅片用槽式抛光装置，包括依次设置的预清洗槽、第一水洗槽、碱液槽、第二水洗槽、后清洗槽、第三水洗槽、酸洗槽、第四水洗槽及烘干槽，所述碱液槽的槽体底部设置有超声波震动装置，所述超声波震动装置位于碱液槽中花篮的第一侧端支撑架的底部。本实用新型提高了硅片抛光后的表面质量，降低了不良品的产生；抛光反应更加完全、更加均匀，在一定程度上可以减少抛光工艺时间，提高产能；减少了消泡剂等化学品的使用量，降低了生产成本。