[实用新型]双工位抛光机有效

专利信息
申请号: 202022194283.1 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN212553229U 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 刘小平;凌建军;郭克文;文斌 申请(专利权)人: 湖南宇环精密制造有限公司
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B27/00;B24B49/16;B24B41/06;B24B41/02
代理公司: 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 代理人: 厉田
地址: 410000 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型公开了一种双工位抛光机,包括机架、横移驱动组、升降驱动组、双工位压力平衡装置和抛光组,双工位压力平衡装置包括固定机座、升降机座、平衡升降机构、一对压力传感器和一对装夹工装,平衡升降机构安装在固定机座上,升降机座安装平衡升降机构上,一对压力传感器分别安装在固定机座和升降机座上,一对装夹工装分别安装在一对压力传感器上,一对压力传感器以及升降机构之间通过信号联接,横移驱动组安装在机架上,固定机座与横移驱动组连接,升降驱动组安装在机架上,抛光组与升降驱动组连接。该双工位抛光机具有结构简单可靠、能实现双工位抛光力度平衡、能提高产品质量的优点。
搜索关键词: 双工 抛光机
【主权项】:
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