[实用新型]一种用于碳化硅晶片退火的装置有效

专利信息
申请号: 202022301952.0 申请日: 2020-10-15
公开(公告)号: CN214032757U 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 陈秀芳;张木青;徐现刚;王垚浩 申请(专利权)人: 广州南砂晶圆半导体技术有限公司
主分类号: C30B33/02 分类号: C30B33/02;C30B29/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 511458 广东省广州市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供了一种用于碳化硅晶片退火的装置,通过在坩埚体内设有一层或多层用于放置碳化硅晶片的夹层板,并且设置各夹层板沿坩埚体的轴向方向排布,相邻的夹层板之间具有一定的间距。这样,在碳化硅晶片退火时,在各夹层板上分别摞若干片碳化硅晶片,与将所有的碳化硅晶片直接摞在一起相比,可以有效防止碳化硅晶片的晶片重量增加,导致晶片之间压得过紧,氧化后难分离的问题。同时,在各夹层板上开设通孔,可以保证空气的流通,进而可以保证各晶片之间的空气流通,有助于减少晶片黏连。因此,本申请实施例可以解决碳化硅晶片退火后晶片不好分离的问题,可以有效降低裂片、破片率,还可以在坩埚内放置更多的晶片,提高退火效率并降低生产成本。
搜索关键词: 一种 用于 碳化硅 晶片 退火 装置
【主权项】:
暂无信息
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