[实用新型]一种高效排屑研磨垫有效
申请号: | 202022391626.3 | 申请日: | 2020-10-23 |
公开(公告)号: | CN213258878U | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 申佩佩 | 申请(专利权)人: | 德阳精研科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | B24B37/22 | 分类号: | B24B37/22;B24B37/26;B24B37/24 |
代理公司: | 广州晟策知识产权代理事务所(普通合伙) 44709 | 代理人: | 李靖 |
地址: | 518104 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种高效排屑研磨垫,包括研磨层、抛光垫、支撑板、缓冲垫和魔术贴,所述抛光垫的上方覆盖有研磨层,且抛光垫覆盖在所述支撑板的顶面,所述支撑板的底面覆盖有缓冲垫,且缓冲垫的底面覆盖有魔术贴,所述研磨层的中间位置处设有排屑孔,且排屑孔用于在研磨过程中进行排屑,所述研磨层、抛光垫、支撑板和缓冲垫之间均通过胶水粘接固定;本实用新型在研磨层的中间位置设置排屑孔,便于研磨过程中将碎屑导入孔中,减少对研磨处的划伤,且利用纤维束形成的无纺布含浸聚氨酯弹性体组成抛光垫,并在抛光垫上设置二氧化硅制成的研磨层进行研磨,二氧化硅用于研磨能够去除材料表面的损伤和变形,优化加工效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 高效 研磨 | ||
【主权项】:
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