[实用新型]一种用于MPCVD设备的真空生成装置有效

专利信息
申请号: 202022457428.2 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN213623261U 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 王凯;秦静 申请(专利权)人: 美若科技有限公司
主分类号: B67C9/00 分类号: B67C9/00
代理公司: 济南文衡创服知识产权代理事务所(普通合伙) 37323 代理人: 刘真
地址: 276800 山东省日*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种用于MPCVD设备的真空生成装置,包括真空发生器和连接管,真空发生器一侧设置有真空吸入管,连接管设置在真空吸入管一端,连接管一端熔接有螺纹环,真空吸入管的内壁一端设置有连接螺槽,螺纹环与连接螺槽相啮合,真空发生器和连接管上均熔接有气压检测筒,螺纹环一端粘合有密封环,连接螺槽的内壁上设置有环形槽,密封环卡设在环形内侧。本实用新型通过连接管与真空吸入管之间的连接关系能够保证连接管与真空吸入管之间密封性好,并且通过密封囊能够进一步增强密封效果,而且通过气压检测筒能够检测真空发生器工作时气压是否正常,通过观察指示灯发光情况即可进行判断,因此使用十分方便。
搜索关键词: 一种 用于 mpcvd 设备 真空 生成 装置
【主权项】:
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