[实用新型]一种掩膜工艺中手动拆膜用平台装置有效
| 申请号： | 202022475749.5 | 申请日： | 2020-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN213276254U | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 华卫群;尤春;朱磊;顾梦星;韦庆宇;杨东海 | 申请（专利权）人： | 无锡中微掩模电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/72 | 分类号： | G03F1/72;G03F1/48;G03F1/82;B65D19/44;B65D19/38 |
| 代理公司： | 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 | 代理人： | 吴忠义 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型属于半导体制造领域，提供了一种掩膜工艺中手动拆膜用平台装置，包括底座，底座的上端面设置有托盘槽，托盘槽内放置有用于放置掩膜版的托盘，底座的上端面在托盘槽的外围设置有若干下压组件，每个下压组件的下压执行部分位于托盘的上方。本实用新型提供的掩膜工艺中手动拆膜用平台装置，结构简单，使用方便，对掩膜版进行有效固定，防止拆膜过程中掩膜版出现晃动，避免掩膜版出现划伤、报废的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工艺 手动 拆膜用 平台 装置 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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