[实用新型]曝光机掩模清洗机的气流改善装置有效
申请号: | 202022492687.9 | 申请日: | 2020-11-02 |
公开(公告)号: | CN213276255U | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 李炯仁 | 申请(专利权)人: | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F7/20;B08B5/00;B08B11/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 510530 广东省广州市广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种曝光机掩模清洗机的气流改善装置,包括清洁机本体和设置于清洁机本体上的排放装置,清洁机本体设置有清洗室和供气装置,供气装置用于向清洗室输送气流,并使气流对放置于清洗室内的工件进行清洁处理,排放装置包括排气管道和风扇,排气管道与清洗室连通,风扇能够驱动清洗室内的气流进入排气管道。通过在清洁机本体上设置排气管道和风扇,使清洗室内对工件进行清洁处理后的气流能够通过排气管道及时排出,避免随气流漂浮的异物沉积在清洗室内,或者再次附着在工件上,有利于提高对工件的清洁质量。同时,风扇为气流的流动提供驱动力,使气流只能从清洗室通过排气管道向外部流动,可有效避免气流回流,进一步保证对工件的清洁质量。 | ||
搜索关键词: | 曝光 机掩模 清洗 气流 改善 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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