[实用新型]曝光机掩模清洗机的气流改善装置有效

专利信息
申请号: 202022492687.9 申请日: 2020-11-02
公开(公告)号: CN213276255U 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 李炯仁 申请(专利权)人: 乐金显示光电科技(中国)有限公司
主分类号: G03F1/82 分类号: G03F1/82;G03F7/20;B08B5/00;B08B11/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 510530 广东省广州市广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种曝光机掩模清洗机的气流改善装置,包括清洁机本体和设置于清洁机本体上的排放装置,清洁机本体设置有清洗室和供气装置,供气装置用于向清洗室输送气流,并使气流对放置于清洗室内的工件进行清洁处理,排放装置包括排气管道和风扇,排气管道与清洗室连通,风扇能够驱动清洗室内的气流进入排气管道。通过在清洁机本体上设置排气管道和风扇,使清洗室内对工件进行清洁处理后的气流能够通过排气管道及时排出,避免随气流漂浮的异物沉积在清洗室内,或者再次附着在工件上,有利于提高对工件的清洁质量。同时,风扇为气流的流动提供驱动力,使气流只能从清洗室通过排气管道向外部流动,可有效避免气流回流,进一步保证对工件的清洁质量。
搜索关键词: 曝光 机掩模 清洗 气流 改善 装置
【主权项】:
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