[实用新型]静电吸盘有效
申请号: | 202022665122.6 | 申请日: | 2020-11-17 |
公开(公告)号: | CN213366559U | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 郭万里 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种静电吸盘,包括吸盘主体、电极及设置在所述吸盘主体的顶部的若干凹槽,所述电极嵌入所述吸盘主体并产生静电以吸附限位在所述凹槽内的芯片。本实用新型提供的静电吸盘通过在吸盘主体的顶部设置若干凹槽以对芯片进行限位吸附,用于转移芯片进行清洗或激活处理,并在静电释放后承载芯片与目标晶圆键合,无需将芯片临时键合到载体晶圆进行wafer‑to‑wafer键合,进而无需严格控制wafer‑to‑wafer键合的对准精度,更避免了芯片转移过程中的芯片缺失问题,且本实用新型提供的静电吸盘中芯片放置在凹槽内不需要精确对准,工艺简单。 | ||
搜索关键词: | 静电 吸盘 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造