[实用新型]一种PI蚀刻液电解再生系统有效
| 申请号： | 202022722802.7 | 申请日： | 2020-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN213739697U | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 方磊;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 | 申请（专利权）人： | 上达电子（深圳）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/46 | 分类号： | C23F1/46;C25B1/00;C25B9/00 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人： | 张帅 |
| 地址： | 518100 广东省深圳市宝安区沙井街道黄*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种PI蚀刻液电解再生系统，属于蚀刻液电解技术领域。包括PI蚀刻液储槽、泵、过滤器和电解再生装置，所述的过滤器设置在PI蚀刻液储槽底部循环PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液，所述的电解再生装置设置在PI蚀刻液储槽的一侧，电解再生装置与PI蚀刻液储槽相通，PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液从PI蚀刻液储槽的槽体底部通过泵抽至电解再生装置内，电解再生装置电解再生后将PI蚀刻液再抽回PI蚀刻液储槽。本实用新型的有益效果是：本实用新型通过电解再生装置，提高药液中高锰酸根离子浓度，延长药液寿命，节省药水成本；减少药液使用，将产生的无用成分回收利用，减少废液产生，减少环境污染，降低废水处理成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pi 蚀刻 电解 再生 系统 | ||
【主权项】：
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