[实用新型]真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机有效
| 申请号： | 202022792523.8 | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN213924998U | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 范玉山;黄桃 | 申请（专利权）人： | 苏州德耐纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/32;C23C14/50 |
| 代理公司： | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人： | 季栋林 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，涉及镀膜机技术领域，为解决现有的一些复合镀膜机稳定性不高，导致产品质量下降的问题。所述箱体结构的上方安装有镀膜结构，所述镀膜结构的上方设置有接入降温器，所述接入降温器的一侧安装有滑轨，所述箱体结构的前端面设置有检测门，所述镀膜结构的前端安装有滑移真空门，所述箱体结构的一侧设置有连接通道，所述连接通道的一侧安装有主控结构，所述主控结构的上方设置有调节结构，所述调节结构的一侧安装有警报器，所述箱体结构的内部设置有减震弹簧结构，所述减震弹簧结构的上方安装有真空抽气器，所述真空抽气器的一端设置有管道，所述镀膜结构的内部安装有工体转架。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 磁控溅射 离子 复合 镀膜 | ||
【主权项】：
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