[实用新型]气体处理装置、用于制膜的干程设备和制膜设备有效
| 申请号： | 202022839000.4 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN214051187U | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 代攀;冯春磊;丑树人;陈亦力;韩增杰;魏贞辉 | 申请（专利权）人： | 北京碧水源膜科技有限公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;G05D27/02 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 赵志远 |
| 地址： | 100000 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种气体处理装置、用于制膜的干程设备和制膜设备，气体处理装置包括加湿部、干燥部、缓冲部和温度控制部，加湿部用于加湿气体，干燥部用于干燥气体，加湿部的出气口和干燥部的出气口均与缓冲部连通；缓冲部的出气口与温度控制部的进气口连通，温度控制部用于控制混合气体的温度。气体处理装置能够对气体进行处理，控制气体的温度、湿度，从而能够保持干程阶段气体的稳定性。用于制膜的干程设备采用上述的气体处理装置进行供气，因此干程设备的气体能够保持平稳的温度、湿度变化，有效控制干程阶段膜的表层、亚层结构，提高成膜质量。制膜设备采用上述的干程设备，因此能够有效控制干程阶段膜的表层、亚层结构，提高成膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 处理 装置 用于 设备 | ||
【主权项】：
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