[实用新型]一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备有效
| 申请号： | 202022854218.7 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN214300328U | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 汪选林 | 申请（专利权）人： | 深圳森丰真空镀膜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 鲍敬 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种靶材背面固定式平面靶，包括：靶材、靶体、轭铁、磁铁、压板、绝缘套和屏蔽罩；靶体内部限定有容纳腔，容纳腔具有插入口，轭铁上设有磁铁，轭铁通过插入口插入安装到容纳腔内，轭铁上设有第一水流通道，轭铁的外侧壁、磁铁与容纳腔的内侧壁限定出第二水流通道，第一水流通道与第二水流通道连通；靶材设于靶体的前侧面，压板的前后两端分别形成第一弯折部和第二弯折部，第一弯折部勾设在靶材上，第二弯折部与靶体相连，屏蔽罩罩设在靶体和压板外。在这种结构形式下，第一弯折部不需要做的很大，只需能勾住靶材即可，因此相同靶体宽度下，靶材可以做的较宽，而且屏蔽罩能保护非靶材材质溅射到货品上，提高镀膜品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 背面 固定 平面 真空 溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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