[实用新型]一种硅片抛光用暂存放置系统有效
| 申请号： | 202022883129.5 | 申请日： | 2020-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN213889549U | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 袁祥龙;刘园;武卫;刘建伟;由佰玲;孙晨光;王彦君;常雪岩;裴坤羽;祝斌;刘姣龙;张宏杰;谢艳;杨春雪;刘秒;吕莹;徐荣清 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B08B11/00;B08B3/02 |
| 代理公司： | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人： | 栾志超 |
| 地址： | 300384 天津市滨海*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种硅片抛光用暂存放置系统，包括用于放置待抛光硅片的上载暂存机构；用于放置抛光后硅片的下载暂存机构；以及用于驱动上载暂存机构和下载暂存机构旋转，并向置于上载暂存机构或下载暂存机构上硅片的非抛光面进行喷淋的驱动清洗机构；其中，上载暂存机构使硅片的待抛光面被溶液浸润；下载暂存机构使硅片的抛光面被溶液保护且被清洗；上载暂存机构和下载暂存机构绕设于驱动清洗机构设置。本实用新型同步对多组上载或下载硅片进行稳定暂存放置，不仅使上载硅片的待抛光面完全浸润，亦同时对上载硅片的非抛光面进行保护；而且使下载硅片的抛光面完全处于水液环境中与空气隔绝，也同时对下载硅片的非抛光面上的抛光液和杂质进行清洗去除。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 抛光 暂存 放置 系统 | ||
【主权项】：
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