[实用新型]晶片光阻去除装置有效
| 申请号： | 202022894767.7 | 申请日： | 2020-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN214896212U | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 钟兴进 | 申请（专利权）人： | 广州市鸿浩光电半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人： | 吴圳添 |
| 地址： | 511300 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种晶片光阻去除装置，包括机台，所述机台上方设置有顶板，顶板底端设置有滑轨，滑轨上设置有操纵臂，操纵臂底端设置有载具，所述机台内部左侧设置有紫外线箱，紫外线箱右侧设置有剥离箱，剥离箱内底端设置有加热件，剥离箱两侧设置有超声装置，通过PLC控制器可以进行编程，对操纵臂进行设定，使操纵臂在滑轨上进行滑动，操纵臂依次滑到紫外线箱顶端，通过操纵箱的伸缩功能伸入紫外线箱内部，通过紫外线灯管照射待去除的光阻层，然后升起滑动到剥离箱顶端，在伸入剥离箱内部，通过超声装置对晶片进行震动去除光阻，最后在升起滑动到清洗箱顶端，并通过清洗箱内部水源清洗晶片上残留的光阻剥离液，提高了光阻去除装置的实用性和方便性。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 去除 装置 | ||
【主权项】：
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