[实用新型]一种用于区熔法制备单晶硅的加热线圈有效
| 申请号： | 202022923198.4 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN214327965U | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 李聪;庞炳远;杨洪星;张伟才;郑万超;杨静;索开南;陈晨;王雄龙 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
| 主分类号： | C30B13/20 | 分类号： | C30B13/20;C30B29/06;H05B6/36 |
| 代理公司： | 天津中环专利商标代理有限公司 12105 | 代理人： | 李美英 |
| 地址： | 300220*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于区熔法制备单晶硅的加热线圈，包括线圈主体和线圈冷却水管，线圈冷却水管嵌入线圈主体内，线圈主体为平板单匝结构，线圈主体的上表面设有向线圈内部凹陷的台阶Ⅰ，在台阶Ⅰ底部与线圈主体内圆上边缘之间设置上斜面；在线圈主体下表面设置向线圈内部凹陷的台阶Ⅱ；在台阶Ⅱ底部与线圈主体内圆下边缘之间设置下斜面；在线圈主体内圆下边缘处，设置一圈圆弧凸起；在线圈主体内圆处开有四个贯通上下表面的十字狭缝，在线圈主体外圆沿狭缝Ⅰ方向的一侧设置连接电极的法兰，在法兰与狭缝Ⅰ间设置一条主缝，主缝宽度逐渐减小延伸至法兰处。本实用新型可以使熔区热场均匀、熔区温度梯度小、成晶率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 法制 单晶硅 加热 线圈 | ||
【主权项】：
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