[实用新型]一种磷源恒温设备有效
| 申请号： | 202022943503.6 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN213459663U | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 李铁 | 申请（专利权）人： | 李铁 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18;G01N33/00;B65D25/02 |
| 代理公司： | 南京科知维创知识产权代理有限责任公司 32270 | 代理人： | 许益民 |
| 地址： | 154000 黑龙江省*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种磷源恒温设备，包括外壳、恒温箱体和控制模块；还包括三氯氧磷气体检测探头和应急抽排风装置，三氯氧磷气体检测探头设于恒温箱体的内壁，用于对恒温箱体内部的三氯氧磷气体浓度进行检测，三氯氧磷气体检测探头与控制模块电连接；应急抽排风装置包括漩涡气泵，漩涡气泵与控制模块电连接。本实用新型的磷源恒温设备设置三氯氧磷气体检测探头，用于检测恒温箱体内的三氯氧磷气体浓度，当三氯氧磷气体浓度超限时系统发出报警信号；设置应急抽排风装置，用于在出现磷源泄漏情况时进行应急抽排风，将恒温箱体内的泄漏气体排至已连接的尾气处理系统中，从而保证使用安全。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 恒温 设备 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
