[实用新型]研磨垫及具有其的研磨装置

摘要

本实用新型提供了一种研磨垫及具有其的研磨装置。该研磨垫具有相对的非工作面和工作面，工作面具有旋转中心且工作时沿旋转中心周向旋转，工作面具有至少一个第一区域，在由旋转中心指向工作面的边缘的方向上，第一区域的第一长度由L1递增至L2并由L2递减至L3，第一长度为第一区域沿旋转方向的长度，工作面中除第一区域之外的区域为第二区域，位于第一区域中的工作面与非工作面之间的最大垂直距离为H1，位于第二区域中的工作面与非工作面之间的最大垂直距离为H2，H1＜H2。上述研磨垫能够沿晶圆的边缘向中心区域的方向逐渐降低研磨量，避免了研磨后的晶圆背面沿靠近中部的方向逐渐凹陷，进而提高了减薄后晶圆背面的平坦化程度。