[实用新型]一种石墨舟有效
申请号: | 202022955021.2 | 申请日: | 2020-12-08 |
公开(公告)号: | CN213866408U | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 任永伟;何悦;贾松燕;任勇 | 申请(专利权)人: | 横店集团东磁股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50;H01L31/18 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 322118 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种石墨舟,涉及晶硅太阳能电池制造领域。该石墨舟包括石墨舟片和卡点,石墨舟片上固定贴设有硅片,硅片的底边与石墨舟片的底边成夹角设置,卡点卡接于石墨舟上且与硅片抵接,卡点上设有转动槽,工具能够插接于转动槽内旋转以带动卡点转动,卡点设有多个,多个卡点沿硅片的周向设置,以将硅片抵接固定。本实用新型通过在卡点上设置转动槽,当卡点出现磨损时,工具插接于转动槽内旋转以带动卡点转动,以将卡点与硅片抵接的磨损点转开使用卡点未磨损面对硅片继续抵接使用,延长了卡点的使用寿命;将硅片的底边与石墨舟片的底边成夹角设置,使硅片能够依靠自身重力紧贴石墨舟片,减小硅片与石墨舟片之间的间隙,提高镀膜质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的