[实用新型]靶材磁控镀膜支架有效

专利信息
申请号: 202022978948.8 申请日: 2020-12-10
公开(公告)号: CN214361649U 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 罗帅 申请(专利权)人: 沙河市嘉炎镜业科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 054100 河北省邢台市纬三*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开了靶材磁控镀膜支架,包括离子溅射仪本体、镀膜支板、靶材本体和滑动件,所述镀膜支板固定连接在离子溅射仪本体内部,所述镀膜支板两条对角线分别设有四条滑轨,所述镀膜支板顶部设有多个凹孔,所述四条滑轨顶部设有四个挡杆,所述挡杆两端滑动连接有两个卡接件,所述滑动件设置有四个且滑动连接在镀膜支板内部,所述滑动件输出端与挡杆固定连接,所述靶材本体滑动连接在四个挡杆内部,本实用新型中,通过调节滑动件,使四个滑动件与靶材外侧外切,将靶材稳定在镀膜支板上,通过所设的卡接件,将滑动挡杆与镀膜支板卡接,有利于加工不同尺寸的圆形靶材。
搜索关键词: 靶材磁控 镀膜 支架
【主权项】:
暂无信息
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