[实用新型]靶材磁控镀膜支架有效
申请号: | 202022978948.8 | 申请日: | 2020-12-10 |
公开(公告)号: | CN214361649U | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 罗帅 | 申请(专利权)人: | 沙河市嘉炎镜业科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 054100 河北省邢台市纬三*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了靶材磁控镀膜支架,包括离子溅射仪本体、镀膜支板、靶材本体和滑动件,所述镀膜支板固定连接在离子溅射仪本体内部,所述镀膜支板两条对角线分别设有四条滑轨,所述镀膜支板顶部设有多个凹孔,所述四条滑轨顶部设有四个挡杆,所述挡杆两端滑动连接有两个卡接件,所述滑动件设置有四个且滑动连接在镀膜支板内部,所述滑动件输出端与挡杆固定连接,所述靶材本体滑动连接在四个挡杆内部,本实用新型中,通过调节滑动件,使四个滑动件与靶材外侧外切,将靶材稳定在镀膜支板上,通过所设的卡接件,将滑动挡杆与镀膜支板卡接,有利于加工不同尺寸的圆形靶材。 | ||
搜索关键词: | 靶材磁控 镀膜 支架 | ||
【主权项】:
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