[实用新型]一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构有效
申请号: | 202023036226.7 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN214243804U | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 苏富琨;余光明;戴荣昌;曾朵清 | 申请(专利权)人: | 福建雅鑫电子材料有限公司 |
主分类号: | B67D7/78 | 分类号: | B67D7/78;B67D7/02;H01L21/67 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 许娆 |
地址: | 365050 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于半导体蚀刻混酸系统原料罐的出料机构,涉及半导体生产加工用相关设备技术领域。本实用新型包括出料机构主体,出料机构主体包括收集箱、收集仓和增压泵,且增压泵、收集仓分别贯穿连接于收集箱一端以及上端中部,收集箱另一端中部呈中心对称等距离连接有供料管,且供料管前端连接有螺管,收集仓两侧中部连接有滑动组件,且滑动组件包括第一支架和第二支架,第一支架以及其外侧第二支架内侧中央位置通过滑槽滑动连接有滑块,且滑块端部与滑槽内端部侧壁之间抵触连接。本实用新型通过设置滑动组件和出料机构主体结构,具有便于使用,提高混酸系统工作效率的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 蚀刻 系统 原料 机构 | ||
【主权项】:
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