[实用新型]一种晶圆分区吸附结构有效

专利信息
申请号: 202023042382.4 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN213878065U 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 何淑英 申请(专利权)人: 广州市鸿浩光电半导体有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/677
代理公司: 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 代理人: 吴圳添
地址: 511300 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及晶圆加工技术领域,具体为一种晶圆分区吸附结构,包括机体、底座、卸料装置、送料装置以及转动机,所述底座安装在工作台的下端,所述机体包括第一吸风机、工作台、第二吸风机、升降器以及加工仓,所述工作台安装在机体的上端,所述加工仓安装在工作台的上端,通过工作台以及加工仓,提供晶圆加工的场所,所述第一吸风机上设有下吸板,所述第二吸风机上设有上吸板,通过下吸板以及上吸板分别吸附晶圆片,所述卸料装置以及送料装置分别安装在加工仓的两侧,并且与机体之间设有连接杆连接,所述卸料装置以及送料装置均包括电机以及传动轮,通过送料装置运输未加工的晶圆,通过卸料装置运输加工后的晶圆。
搜索关键词: 一种 分区 吸附 结构
【主权项】:
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