[实用新型]狭缝喷嘴以及基板处理装置有效
申请号: | 202023053851.2 | 申请日: | 2020-12-17 |
公开(公告)号: | CN215390401U | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 安陪裕滋 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本实用新型的课题在于在狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴的基板处理装置中,能够在吐出口的中央部与端部之间有效率地进行用于使吐出量均匀化的作业。本实用新型的狭缝喷嘴包括:喷嘴本体,通过一对唇部隔开间隙地相互相向,形成呈狭缝状开口的吐出口;以及调整机构,使一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整吐出口的开口宽度,在一对唇部中的至少一个中,在与和另一个唇部相向的相向面为相反侧的面上与吐出口的长边方向平行地设置有槽,调整机构通过以增减喷嘴本体中的隔着槽而相向的部位的间隔的方式使喷嘴本体变形来调整开口宽度。槽在与吐出口在长边方向上的端部对应的位置处,比在与吐出口在长边方向上的中央部对应的位置处深。 | ||
搜索关键词: | 狭缝 喷嘴 以及 处理 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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