[实用新型]一种可调节式双面光刻机有效
申请号: | 202023125163.2 | 申请日: | 2020-12-22 |
公开(公告)号: | CN214504123U | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 张其文 | 申请(专利权)人: | 四川鸿源鼎芯科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙) 32385 | 代理人: | 徐永雷 |
地址: | 610100 四川省成都市龙泉*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种可调节式双面光刻机,包括机体和活动盘,所述机体右端设置有机柜,且机体上端固定有工作台,所述工作台上侧右端连接有显示屏,且工作台上侧后端设置有仪表盘,所述活动盘连接于工作台上端中部,且活动盘外侧粘接有防滑塞,所述活动盘下端连接有驱动轴,且驱动轴下端设置有工作电机。该可调节式双面光刻机设置有辅助支杆,活动盘下端环状等距离分布的辅助支杆能够均匀对活动盘进行支撑,保护活动盘及其上端设置的光刻机等设备的稳定性,进一步辅助支杆下端固定有滚轮,能够沿环状滑槽内进行滚动,在活动盘旋转调节的过程中起到促进作用,提高其的灵活性,降低摩擦阻力以及磨损消耗。 | ||
搜索关键词: | 一种 调节 双面 光刻 | ||
【主权项】:
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