[实用新型]包含DFB镭射镜面镀膜的DFB镭射结构有效
| 申请号： | 202023131466.5 | 申请日： | 2020-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN213878717U | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 黄国忠;吕一璁;林弘伟 | 申请（专利权）人： | 创兆光有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/028 | 分类号： | H01S5/028;H01S5/12 |
| 代理公司： | 北京尚钺知识产权代理事务所(普通合伙) 11723 | 代理人： | 王海荣 |
| 地址： | 中国香港中环德辅道中2*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | 本实用新型属于半导体镭射技术领域，尤其涉及一种包含DFB镭射镜面镀膜的DFB镭射结构。本实用新型DFB镭射结构包含基板、缓冲层、有源层、光栅层、上波导层、上披覆层、上下两面电极，以及位于前出光端面的AR低反射镀膜区域和位于后出光端面的HR高反射镀膜区域，该AR/HR镀膜区域均以氮化铝作为镀膜材料镀制而成。本实用新型使用AlN作为镜面镀膜，一方面能使器件的散热性能得到有效改善，镭射的操作电流、输出功率大幅提升，使其能够满足更高速更高功率的使用要求；二来也能有效延长镭射工作时间，延长镭射使用寿命，避免镭射过早失效；此外还可避免镀膜过程中因热胀冷缩产生小突起或薄膜剥落等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 dfb 镭射 镀膜 结构 | ||
【主权项】：
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