[实用新型]一种任意衬底上单晶AlN薄膜体声波谐振器有效

专利信息
申请号: 202023206561.7 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN215268208U 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 李国强;赵利帅;衣新燕;张铁林;欧阳佩东;刘红斌 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02;H03H9/17
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;江裕强
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种任意衬底上单晶AlN薄膜体声波谐振器。该谐振器包括:衬底、硅腔、单晶二维材料、Al缓冲层、第一金属电极、压电层及第二金属电极;所述衬底与单晶二维材料连接,衬底与单晶二维材料的连接面向衬底内凹陷形成硅腔;Al缓冲层沉积在所述单晶二维材料上,第一金属电极生长在Al缓冲层上;压电层与第一金属电极、单晶二维材料连接;第二金属电极沉积在压电层上。本实用新型将基于单晶AlN压电堆叠结构用于薄膜体声波谐振器的制备中,单晶AlN薄膜在压电性能上优于目前薄膜体声波谐振器中应用到的多晶AlN压电薄膜,从而提高器件的品质因数和有效机电耦合系数。同时避免了单晶AlN谐振器对衬底的严格要求。
搜索关键词: 一种 任意 衬底 上单晶 aln 薄膜 声波 谐振器
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