[实用新型]一种适用于真空镀膜稳定性好的回转机构有效

专利信息
申请号: 202023321052.9 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN215560631U 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 王伟平;王金泉;王菊姿 申请(专利权)人: 莱糸真空科技(常州)有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/34
代理公司: 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 代理人: 李丹
地址: 213000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种适用于真空镀膜稳定性好的回转机构,涉及真空镀膜技术领域,为解决现有的回转机构通常悬置于镀膜设备内部,导致安装的不够稳定,长时间使用后其旋转时稳定性较差的问题。所述转盘的上方安装有支撑杆,所述支撑杆的上方安装有保持架,所述转盘的安装有下连接座,所述下连接座的下端设置有传动轴,所述传动轴下端的外部安装有第一齿轮,所述第一齿轮的一侧安装有第二齿轮,所述第二齿轮的上方安装有第三齿轮,所述第三齿轮的另一侧安装有第四齿轮,所述第四齿轮的下方安装有驱动电机,所述保持架包括内撑架、外撑架、通槽、滚槽、滚珠和上连接座,所述支撑杆的外侧安装有工件架。
搜索关键词: 一种 适用于 真空镀膜 稳定性 回转 机构
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