[发明专利]量子点发光结构及其制作方法、阵列基板和显示装置有效
| 申请号： | 202080000717.X | 申请日： | 2020-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN114026703B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 李东;陈卓 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/06 | 分类号： | H01L33/06;H01L33/14;H10K50/115;H10K50/16;H10K50/18;H10K50/165 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种量子点发光结构(100)及制作方法、阵列基板(200)和显示装置(300)。量子点发光结构(100)包括量子点发光层(110)、电极(140)和位于量子点发光层(110)和电极(140)之间的电子传输层(120)；量子点发光结构(100)还包括电子阻挡层(130)，位于电子传输层(120)之中。通过在电子传输层(120)中增加电子阻挡层(130)，可减少从电极(140)注入电子传输层(120)中的电子，进而可平衡量子点发光层(110)中的载流子浓度，提高量子点发光结构(100)的发光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 发光 结构 及其 制作方法 阵列 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080000717.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
