[发明专利]用于电感等离子体源的改进的静电屏蔽件在审
| 申请号： | 202080003225.6 | 申请日： | 2020-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN112272857A | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | S·E·萨瓦;陈贞安;马绍铭 | 申请（专利权）人： | 玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 王艳波;林军 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供了用于电感等离子体源的静电屏蔽件。在一种实施方式中，等离子体处理装置可以包括等离子体室、形成等离子体室的至少一部分的电介质壁和位于电介质壁附近的电感耦合元件。在用射频(RF)能量激励该电感耦合元件时，该电感耦合元件可以在该等离子体室中产生等离子体。该等离子处理装置可以进一步包括位于该电感耦合元件与该电介质壁之间的静电屏蔽件。该静电屏蔽件可以包括多个屏蔽板、狭缝和/或层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电感 等离子体 改进 静电屏蔽 | ||
【主权项】：
暂无信息
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