[发明专利]蒸镀源以及蒸镀装置有效
| 申请号： | 202080006222.8 | 申请日： | 2020-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN113039306B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 藤井严;菊地诚 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H05B33/10;H10K50/10 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 魏彦 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够长时间连续生产均匀的膜厚分布的薄膜的蒸镀源以及蒸镀装置。蒸镀源具有收纳箱、第一喷嘴组以及第二喷嘴组。收纳箱收纳在蒸镀对象物上成膜的蒸镀材料。第一喷嘴组由多个第一喷嘴构成，该第一喷嘴设置在收纳箱的一方向上的中央区域且具有第一喷嘴孔。第二喷嘴组由多个第二喷嘴构成，该第二喷嘴设置在收纳箱的一方向上的比中央区域靠外方的各侧的侧方区域且具有第二喷嘴孔。分别位于收纳箱的一方向的两端的第二喷嘴之间的间隔比蒸镀对象物的上述一方向上的长度长，在第二喷嘴的射出蒸镀材料的气化物质的开口端中，一方向上的位于外方侧的部分距离假想基准面的高度比位于中央区域侧的部分距离假想基准面的高度低，所述假想基准面是与第二喷嘴孔的孔轴正交的面。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀源 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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