[发明专利]溅射靶制品以及溅射靶制品的再生品的制造方法有效
申请号: | 202080008598.2 | 申请日: | 2020-01-15 |
公开(公告)号: | CN113272468B | 公开(公告)日: | 2023-08-25 |
发明(设计)人: | 神永贤吾;杉本圭次郎;山田裕贵;村田周平 | 申请(专利权)人: | JX金属株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;B23K20/00 |
代理公司: | 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 | 代理人: | 聂宁乐;胡瑾 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种可降低成本的溅射靶制品。所述溅射靶制品,包括:靶,背板或背管,嵌件材料的层,所述靶的非溅射面侧的至少一部分轮廓化为具有面对称状的凹凸部,所述嵌件材料的层形成为紧贴所述轮廓化的表面,所述嵌件材料,由比重至少比构成靶的金属更轻的金属形成。 | ||
搜索关键词: | 溅射 制品 以及 再生 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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