[发明专利]等离子照射装置以及前端设备在审
| 申请号： | 202080008898.0 | 申请日： | 2020-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN113287372A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 伊藤伸介 | 申请（专利权）人： | 日本特殊陶业株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26;A61B18/04 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 任天诺;高培培 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 等离子照射装置(20、320、420、520、620、720、820)具备气体引导路径(30)和沿面放电部(40、340、440、540、640、740、840)。沿面放电部(40、340、440、540、640、740、840)的放电电极和接地电极的一方直接或者经由其他构件而面向流路(36)，并与周期性变化的电压施加于放电电极相应地在流路(36)内产生沿面放电。并且，接地电极的至少一部分配置于比放电电极靠放出口(34)侧处。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 照射 装置 以及 前端 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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