[发明专利]半导体马赫-曾德尔光调制器在审
| 申请号： | 202080009448.3 | 申请日： | 2020-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN113316740A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 尾崎常祐;田野边博正;金泽慈 | 申请（专利权）人： | 日本电信电话株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/025 | 分类号： | G02F1/025 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 庄锦军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一个目的是解决由高频线和端接电阻之间的阻抗失配引起的光调制器的高频特性的劣化。半导体马赫‑曾德尔光调制器包括输入侧引出线(20～23)、相位调制电极线(24～27)、输出侧引出线(28～31)、将通过相位调制电极线(24～27)传播的调制信号施加到各个波导(16～19)的电极(32～35)，以及接地线(48～50)。此外，在衬底和输出侧引出线(28～31)下方的下层中的介电层之间，沿输出侧引出线(28～31)间断地形成至少一个n型半导体层或p型半导体层。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 马赫 曾德尔光 调制器 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电信电话株式会社，未经日本电信电话株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202080009448.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：增强现实系统
- 下一篇：靶材的清洗方法、靶材的制造方法以及循环铸块的制造方法
