[发明专利]在非所要衍射级存在的情况下的散射测量建模在审
| 申请号： | 202080009572.X | 申请日： | 2020-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN113302473A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | P·R·阿金斯;列-关·里奇·利;S·克里许南;D·W-C·吴;E·邱 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种计量系统可接收用于基于波长范围内的来自散射测量工具的光谱散射测量数据的回归来测量包含以选定图案分布的特征的目标的一或多个选定属性的模型。所述计量系统可进一步产生所述模型的加权函数来使与其中预测由所述散射测量工具在测量所述目标时捕获的光包含非所要衍射级的波长相关联的所述光谱散射测量数据的部分去加重。所述计量系统可进一步指导所述光谱散射测量工具产生包含以所述选定图案分布的制造特征的一或多个测量目标的散射测量数据。所述计量系统可进一步基于所述一或多个测量目标的所述散射测量数据回归到由所述加权函数加权的所述模型来测量所述一或多个测量目标的所述选定属性。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射 存在 情况 散射 测量 建模 | ||
【主权项】：
暂无信息
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