[发明专利]成像反射计在审
| 申请号： | 202080010439.6 | 申请日： | 2020-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN113330299A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 赵国衡;M·瓦埃兹-伊拉瓦尼;T·J·伊根 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G02B17/02;G01N21/17;G02B13/22 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 史起源;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 成像反射计包括源模块，所述源模块经配置以产生不同标称波长的多个输入光束。布置具有第一数值孔径(NA)的照明瞳孔，使得多个输入光束中的每个输入光束通过照明瞳孔。大场透镜经配置以接收多个输入光束中的每个输入光束的至少一部分，并且在正被成像的样品上提供实质远心照明。大场透镜也经配置以接收从样品所反射的实质远心照明的被反射的部分。被反射的部分通过具有第二NA的成像瞳孔，并由生成图像信息的成像传感器模块所接收，所述第二NA比第一NA低。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 反射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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