[发明专利]金属膜的沉积有效
| 申请号： | 202080011300.3 | 申请日： | 2020-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN113366144B | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 约瑟亚·科林斯;格里芬·约翰·肯尼迪;汉娜·班诺克尔;帕特里克·范克利蒙布特;塞沙萨耶·瓦拉达拉简 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/34;H01L21/02;C23C16/56;C23C16/30 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文提供用于逻辑及存储器应用的低电阻金属化堆叠结构及相关制造方法。在一些实施方案中，在沉积薄金属氮氧化物或金属氮化物成核层，之后进行纯金属导体的沉积。成核层为非晶形的，其使得大型纯金属膜晶粒生长模板化并降低电阻率。此外，以下描述的方法的一些实施方案将大部分或全部的金属氮氧化物成核层转化为纯金属层，从而进一步降低电阻率。 | ||
| 搜索关键词： | 金属膜 沉积 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
