[发明专利]氧化物烧结体、溅射靶及溅射靶的制造方法在审
申请号: | 202080013869.3 | 申请日: | 2020-02-13 |
公开(公告)号: | CN113423860A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 海上晓 | 申请(专利权)人: | 出光兴产株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C04B35/453 |
代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 陈亦欧;毛立群 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种氧化物烧结体(1),氧化物烧结体(1)的表面的维氏硬度的平均值超过500Hv、小于900Hv。 | ||
搜索关键词: | 氧化物 烧结 溅射 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于出光兴产株式会社,未经出光兴产株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202080013869.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:x射线成像系统的校准
- 下一篇:半导体装置及半导体装置的工作方法
- 同类专利
- 专利分类