[发明专利]物理气相沉积系统与处理在审
| 申请号： | 202080014494.2 | 申请日： | 2020-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN113439130A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 肖文;维布什·金达尔;桑杰·巴特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;C23C14/35;C23C14/14;H01J37/34;G03F1/22 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本案揭示了一种物理气相沉积(PVD)腔室及其操作方法。描述了提供包括上屏蔽件的腔室的腔室和方法，所述上屏蔽件具有两个孔，两个孔被定位成允许从两个靶交替溅射。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 系统 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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