[发明专利]垂直腔面发射激光器在审
| 申请号： | 202080017424.2 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN113519099A | 公开（公告）日： | 2021-10-19 |
| 发明（设计）人： | 李基煌;俞炳秀;卢正来 | 申请（专利权）人： | 首尔伟傲世有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/22 | 分类号： | H01S5/22;H01S5/183 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 姜长星;李盛泉 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开一种垂直腔面发射激光器。根据本公开的垂直腔面发射激光器包括：下部镜；上部镜；活性层，设置在所述下部镜和所述上部镜之间；孔形成层，设置在所述上部镜和所述活性层之间，并且具有氧化层和被所述氧化层围绕的窗口层；环形的沟槽，贯通所述上部镜、所述孔形成层以及所述活性层而在内部限定隔绝区域；以及多个氧化孔，布置在被所述沟槽围绕的隔绝区域内，并且贯通所述上部镜和所述孔形成层。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 发射 激光器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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