[发明专利]用于成像应用的光电探测器在审

专利信息
申请号: 202080020773.X 申请日: 2020-03-05
公开(公告)号: CN113574672A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: A·库马尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 孟杰雄
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种用于医学成像应用,具体地用于计算机断层摄影应用的光电探测器(100)。光电探测器(100)包括具有多个光电二极管(110)的光电二极管阵列(100a)。每个都具有包括非晶态材料的主体敏感区域(111)和在光电二极管(110)的光刻限定的边缘(112)处的外围(112)。光电探测器(100)还包括直接位于光电二极管(110)的主体敏感区域(111)的外围(112)处的金属偏置线(132)。提供电荷俘获抑制单元(130、140),其被配置为抑制电荷在光电二极管的边缘(112)处的俘获。
搜索关键词: 用于 成像 应用 光电 探测器
【主权项】:
暂无信息
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