[发明专利]控制光刻装置的方法和相关装置在审
| 申请号： | 202080022847.3 | 申请日： | 2020-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN113632009A | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | F·斯塔尔斯;S·H·C·范戈尔普 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种用于配置用于向衬底上的层提供结构的装置的方法，该方法包括：获取第一数据，该第一数据包括在结构到衬底上的层的提供之前测量和/或建模的衬底特定数据；以及针对至少两个不同控制方案基于上述第一数据和包括与至少两个控制方案相关联的参数的共同评价函数的使用来确定该装置的配置。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 光刻 装置 方法 相关 | ||
【主权项】：
暂无信息
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