[发明专利]用于光学发射光谱法的改进的火花台在审
申请号: | 202080022936.8 | 申请日: | 2020-03-17 |
公开(公告)号: | CN113614512A | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | P·兰库巴 | 申请(专利权)人: | 塞莫费雪科学(埃居布朗)有限公司 |
主分类号: | G01N21/15 | 分类号: | G01N21/15;G01N21/67 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 乐洪咏;朱黎明 |
地址: | 瑞士埃*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于光学发射光谱仪的火花台,其包含:火花室;气体入口,所述气体入口用于使气体流入所述火花室;气体出口,所述气体出口用于从所述火花室运送气体;其中所述火花室、气体入口和/或气体出口的一个或多个内表面包含抗粘附材料。所述抗粘附材料可以实现减少例如金属粉尘的烧蚀材料粘附到所述火花台内的所述表面上。 | ||
搜索关键词: | 用于 光学 发射光谱 改进 火花 | ||
【主权项】:
暂无信息
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