[发明专利]用于机器学习辅助的光学邻近效应误差校正的训练方法在审
申请号: | 202080023323.6 | 申请日: | 2020-03-05 |
公开(公告)号: | CN113614638A | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 文载寅 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20;G06N20/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文描述的是一种确定用于训练机器学习模型以预测光学邻近效应校正的代表图案的方法。所述方法包括:获得包括一组图案群组的设计布局,每个图案群组包括一个或更多个子群组;确定所述一组图案群组中的一组代表图案,所述代表图案是其实例出现于所述一组图案群组中的子群组;经由使用所述一组代表图案来模拟光学邻近效应校正过程,获得与所述一组代表图案相关联的参考光学邻近效应校正数据;和训练机器学习模型,以基于所述一组代表图案和所述一组参考光学邻近效应校正数据来预测针对所述设计布局的光学邻近效应校正。 | ||
搜索关键词: | 用于 机器 学习 辅助 光学 邻近 效应 误差 校正 训练 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备