[发明专利]V合金靶在审
| 申请号： | 202080023752.3 | 申请日： | 2020-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN113614280A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 十亀宏明;福冈淳 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;B22F1/00;C22C1/04;C22C27/02;C22C27/04 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种新颖的V合金靶，其在靶的机械加工中，可抑制靶表面中的凹凸的产生，可抑制成膜时的异常放电的产生，同时也可达成抑制液滴向被处理材的附着。一种V合金靶，包含V及W，且侵蚀面中的维氏硬度的平均值为340HV～750HV的范围，在5点测定点进行测定而得的维氏硬度的偏差为20％以下，优选为维氏硬度处于350HV～710HV的范围，更优选为含有10原子％～50原子％的W且剩余部分包含V及不可避免的杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 | ||
【主权项】：
暂无信息
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