[发明专利]高蚀刻选择性的低应力可灰化碳硬掩模在审

专利信息
申请号: 202080024547.9 申请日: 2020-03-18
公开(公告)号: CN113710829A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 薛君;玛丽·安妮·马努姆皮尔;李石柯;萨曼莎·西亚姆华·坦 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/505;H01J37/32;H01L21/033
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 樊英如;张静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于在衬底上沉积碳可灰化硬掩模层的方法包括:a)将衬底布置在处理室中;b)将室压强设定在预定压强范围内;c)将衬底温度设定在‑20℃至200℃的预定温度范围内;d)供应包含有烃前体和一或更多种其他气体的气体混合物;以及e)通过供应RF等离子体功率持续第一预定时段来激励等离子体,以在该衬底上沉积碳可灰化硬掩模层。
搜索关键词: 蚀刻 选择性 应力 灰化 碳硬掩模
【主权项】:
暂无信息
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