[发明专利]高厚度旋涂式碳硬掩膜组合物及利用其的图案化方法在审
| 申请号： | 202080026081.6 | 申请日： | 2020-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN113661445A | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 李秀珍;金起洪;李昇勋;李昇炫 | 申请（专利权）人： | 荣昌化学制品株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/16;C08L65/00;C08G61/02 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为了提供在半导体光刻工艺中有用的具有高厚度的硬掩膜组合物，本发明提供一种旋涂式硬掩膜组合物及对其组合物通过旋涂涂覆在被蚀刻层上部进行涂覆的工艺及进行烘烤工艺而形成硬掩膜层的图案化方法。根据本发明的硬掩膜，由优异的溶解度特性而具有表现出高厚度、能够承受多重蚀刻过程的高耐蚀刻性及优异的机械特性的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 厚度 旋涂式碳硬掩膜 组合 利用 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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