[发明专利]用于保持预处理浴的系统和方法

摘要

公开了一种用于保持预处理浴的系统，所述预处理浴含有包括IVB族金属的预处理。所述系统包括水性还原剂，所述水性还原剂包括金属阳离子和潜在的硫酸盐来源，所述金属阳离子和所述潜在的硫酸盐来源在与所述预处理浴中的污染物反应时形成金属硫酸盐。所述污染物包括亚硝酸盐来源。所述金属硫酸盐在25℃的温度下的pKsp为4.5到11。还公开了一种用于保持预处理浴的方法，所述预处理浴含有包括IVB族金属的预处理组合物。所述方法包括向所述预处理浴供应足以将所述预处理浴的污染比降低到小于1:1的量的所述还原剂。还公开了使用根据所述系统和方法保持的预处理浴的基材。