[发明专利]具有原位腔室清洁能力的物理气相沉积(PVD)腔室在审
| 申请号： | 202080032707.4 | 申请日： | 2020-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN113785084A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 阿道夫·M·艾伦;凡妮莎·法恩;华忠强;克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚;阿南塔·K·萨布拉曼尼;菲利普·A·克劳斯;龚则敬;周磊;哈伯特·冲;瓦贝哈夫·索尼;基索尔·卡拉提帕拉比尔 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/35;C23C14/50;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文提供工艺配件屏蔽物和包含该工艺配件屏蔽物的工艺腔室的实施方式。在一些实施方式中，被配置成用于在工艺腔室中使用以处理基板的工艺配件包括：屏蔽物，该屏蔽物具有圆柱形主体，该圆柱形主体具有上部分和下部分；适配器部分，该适配器部分经配置以被支撑在工艺腔室的壁上并且具有用于支撑屏蔽物的搁置表面；和加热器，该加热器耦接至适配器部分并且经配置以电耦接至工艺腔室的至少一个电源以加热屏蔽物。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 原位 清洁 能力 物理 沉积 pvd | ||
【主权项】：
暂无信息
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